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半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)  MTK-HT

產(chǎn)品型號:MTK-HT
品牌:MTK
臭氧濃度:臭氧水濃度高 最大30ppm
臭氧產(chǎn)量:氧氣消耗量~16L/min.
使用氣源:氧氣源
推薦指數(shù):comment rank 5
冷卻方式:水冷
設備尺寸: 400*550*850mm
整機重量:20~100Kg
產(chǎn)地: 日本
購機說明:
提前了解實驗要求,才能更好的為您推薦合適的實驗機型。咨詢在線客服或致電:010-82461830,謝謝~~

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配件完善,安裝如此簡單
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產(chǎn)品分類樹

產(chǎn)品詳情

實驗現(xiàn)場

臭氧知識

參考文獻

進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)
 
參數(shù)
臭氧生成方式:無聲放電法
將臭氧氣體溶解于純凈水的方法:噴射方式
臭氧水中臭氧的濃度監(jiān)測:紫外吸收法
臭氧水濃度:更高為30ppm
臭氧水流量:更高50L /min
設備尺寸:寬度400mm 深度550mm 高度850毫米(標準型)
重量:20 ~ 100Kg
消耗功率:~3KW
氧氣壓力:為0.1MPa(供給為0.3MPa)
氧氣純度:99.5%(指定)
氧氣消耗量:~16L/min.
供應純凈水的壓力:0.20Mpa以上(理想值0.25MPa)
供應純凈水的溫度:低于25℃
臭氧氣體生成部的冷卻水溫度:理想值為20℃以下。如無法實現(xiàn),需根據(jù)情況增加冷卻器(可選)。
CO2氣體消耗量(臭氧濃度過高時需通過純凈水注入):大約100cc/min
半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)
特點
臭氧水濃度高
(更大30ppm)
■臭氧水中無金屬雜質(zhì)
半導體,液晶,太陽能電池等潔凈規(guī)格(臭氧水生成部由氟素樹脂材料組成)
■臭氧濃度上升快
達到臭氧更大濃度僅需大約1分鐘
■生成器體積小
長400mm。寬550mm。高820mm(標準規(guī)格)
 
用途
?半導體(清洗)
?FPD,液晶(清洗)
?MEMS,傳感器(清潔)
?硬盤(清洗)
?太陽能電池(清潔)
?醫(yī)療(洗手,純凈水管道清洗)
?食品(洗手,消毒,除臭)
 
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