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JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機簡介UV+O(原子氧)清潔法是一種光敏氧化過程，其中光抗蝕劑、樹脂、人體皮膚油、清潔溶劑殘留物、硅油和助熔劑的污染物分子通過短波紫外線輻射的吸收被激發(fā)和/或解離。分子氧經(jīng)184.9nm分解，臭氧經(jīng)253.7nm分解，同時生成原子氧。253.7nm輻射被大多數(shù)碳氫化合物和臭氧吸收。污染物分子的這種激發(fā)產(chǎn)物與氧原子反應，形成更簡單的揮發(fā)性分子，從表面解吸。因此，當兩種波長同時存在時，原子氧不斷產(chǎn)生，臭氧不斷形成和破壞。通過將適當?shù)念A清潔樣品放置在臭氧產(chǎn)生UV源的5毫米范圍內(nèi)，例如UVO-Cleaner®內(nèi)部的低壓汞蒸汽網(wǎng)格燈，可以在不到一分鐘的時間內(nèi)實現(xiàn)接近原子清潔的表面。此外，該工藝不會損壞MOS柵氧化物的任何敏感器件結構。ufo - cleaner®是去除硅，砷化鎵，石英，藍寶石，玻璃，云母，陶瓷，金屬和導電聚酰亞胺水泥中的有機污染物的安全，有效的方法。它的建造壽命長，維護成本低，服務無故障。應用程序:•在薄膜沉積/剝離和穩(wěn)定光刻膠之前清洗襯底•硅片、透鏡、反射鏡、太陽能電池板、冷軋鋼、慣性制導子組件和GaAs晶圓的清洗•焊劑、混合電路和平板LCD的清洗•蝕刻Teflon®，Viton®和其他有機材料•增強GaAs和Si的氧化鈍化表面•減少玻璃的放氣去除晶圓膠帶•提高涂料對塑料的附著力•測試后從晶圓上去除油墨•剝離光刻膠•從光刻板中去除潛在圖像•清洗光刻版•在硅片上生長氧化層•在包裝/粘合前清洗電路板•增加表面親水特性•生物科學應用的清洗和滅菌•清洗電子顯微鏡探針/載玻片或光纖/透鏡紫外清洗優(yōu)點1. 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，有機物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應后，生成可揮發(fā)性氣體 （CO2、CO、H2O） 等從表面消散，隨著排風系統(tǒng)抽走。2. 表面潔凈度高，且不會像溶液清洗時發(fā)生二次污染。3. 光清洗的表面不會受到損傷，由于光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。4. 光清洗對物體表面微細部位（如孔穴、微細溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。 由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細微的部位，發(fā)生光敏氧化反應，充分表現(xiàn)出光清洗的徹底性。可選設備：所有裝置均配有臭氧殺滅器和鼓風機套件，無需外部排氣即可使用該裝置。臭氧殺手將解離排氣中的微量臭氧，而鼓風機將增加排氣流量。單位尺寸可根據(jù)客戶需求定制?？赡苄枰Ц额~外費用。設備提供以下電源配置：120V/60Hz 220V/50Hz220V/60Hz100V 50/60Hz**臭氧濃度以及樣品與紫外線源之間的距離會極大地影響清潔速率。
Outer DimensionsLength Width Height Exhaust Port Media Inlet Port (2x)350 mm 220 mm 225 mm 50.8 mm 9.5 mm
Tray DimensionsWidth Length Height (Adjustment Range)165 mm 165 mm] 6 mm ~ 38 mm
Grid LampType Average Intensity Distance Measured Away From LampLow Pressure Mercury (Hg) Vapor 28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]
Electrical CharacteristicsOutput PowerVoltage Current6000 Vpeak-peak 30 mA
Available Input Power RequirementsModel Voltage Frequency Current42 120 VAC 60 Hz 2.0 A42-220 220 VAC 50 Hz 3.0 A42-220-60 220 VAC 60 Hz 2.0 A42-100 100 VAC 50/60 Hz 2.0 A42 W/ ELAPSE TIMER 120 VAC, 220VAC 60 Hz, 50Hz 2.0 A, 3.0A
與UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機相關的實驗現(xiàn)場
Q：臭氧氣體濃度與水中溶解臭氧濃度
A：臭氧氣體濃度與水中溶解臭氧濃度 臭氧氣體濃度劑量= 通入到水中的臭氧量 溶解臭氧 = 水中測；
Q：如何提高臭氧在水中溶解度
A：臭氧以兩種主要方法轉化為水，氣泡消脂和文丘里注射器。 兩種方法目標都是相同的，將臭氧；
Q：臭氧與超聲波聯(lián)合去除飲用水中1,4-二氧六環(huán)的研
A：臭氧與超聲波聯(lián)合去除飲用水中1,4-二氧六環(huán)的研究 摘要 采用連續(xù)流反應器在線測量水基臭氧；
Q：AOX指標對廢水深度處理工藝的挑戰(zhàn)
A：AOX指標對廢水深度處理工藝的挑戰(zhàn) 來源： 馬魯銘 鐵基催化劑催化臭氧 公眾號 數(shù)年前，某含溴；
Q：臭氧在水中的利用率問題
A：問：我測了一下，好像只有10%左右。我是用200mg/h左右的臭氧機，6L水容量的反應器。 答： 臭氧；
Q：O3+UV降解耐臭氧微量有機污染物（OR-MOPs）研究
A：O3+UV降解耐臭氧微量有機污染物（OR-MOPs）研究 一、摘要 臭氧(O3)已被廣泛應用于水深度處理中；
Q：ppm、ppb與mg/L、mg/m3、mg/kg的換算關系
A：ppm、ppb與mg/L、mg/m、mg/kg的換算關系 在日常工作中，我們常常要對污染物濃度單位進行換算，下；
Q：什么是臭氧高級氧化法
A：高級氧化技術又稱做深度氧化技術，以產(chǎn)生具有強氧化能力的羥基自由基(OH)為特點，在高溫高；
Q：電催化氧化技術在有機廢水處理中的應用
A：電化學水處理技術是一種綠色水處理技術，其主要原理是利用電位差調控電子流向，使得污染；
Q：恭喜山西大學秦老師關于小鼠臭氧實驗論文發(fā)表
A：介紹 據(jù)估計，2021年全球20-79歲人群的糖尿病患病率為10.5%，涉及約5.366億人(Sun et al.， 2022)。此；
Q：臭氧催化氧化去除制藥廢水中難降解有機物
A：制藥廢水的各類成分復雜，尤其是產(chǎn)品和中間原料等對環(huán)境存在較大影響，廢水處理后直接排；
Q：TiO2催化劑的作用和電化學作用在活性氧形成中的作用
A：使用機型： 3S-J5000臭氧在線檢測儀 強調 研究了新型電催化臭氧化過程的增強機理。 該新方法；
Q：臭氧催化氧化?BAF組合工藝對抗生素廢水去除效果研究
A：臭氧催化氧化；
Q：利用臭氧(O3)氧化降解酮洛芬(KET)模擬廢水的研究
A：利用臭氧(O3)氧化降解酮洛芬(KET)模擬廢水的研究 摘要： 利用臭氧(O3)氧化降解酮洛芬(KET)模擬廢；
Q：臭氧與過氧化鈣(O3/CaO2)降解甲基紅染料廢水研究
A：紡織品印染廢水排放量大,組成復雜,污染物濃度高,其中含有大量結構復雜的染料和化合物[1].色；
Q：不同濃度臭氧處理對黃沙鱉稚鱉生長和存活的影響
A：不同濃度臭氧處理對黃沙鱉稚鱉生長和存活的影響 1、不同濃度臭氧處理對養(yǎng)殖水體水質的影響；
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